導語：俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿易部副部長 Vasily Shpak 表示已研發(fā)成功350納米光刻機，接下來是希望在2026年研發(fā)可以支持130納米的光刻機，這意味著該國正在打破ASML在光刻機市場的壟斷。

在全球光刻機市場，ASML無疑是老大，占有超過六成的市場份額，在EUV光刻機方面更是獨門生意，全球僅有ASML能生產EUV光刻機。

不過EUV光刻機雖然是ASML的獨門生意，但是為ASML帶來更多收入的還是DUV光刻機，ASML也只是預期未來EUV光刻機的產量提升到100臺，而DUV光刻機的產量提高到600臺，可見DUV光刻機的市場規(guī)模大得多。

在DUV光刻機方面，其實并非ASML所獨有，日本的尼康、佳能等也在生產DUV光刻機，只不過日本的光刻機在浸潤式和EUV光刻機方面落后于ASML，如今佳能則選擇了研發(fā)NIL技術，繞開EUV光刻機的限制，據稱佳能的NIL技術已得到日本鎧俠和美國美光的采用。

除了他們之外，中國其實也能生產光刻機，只不過公開的報道指出中國研發(fā)的光刻機在65納米以上，而中國正在努力研發(fā)28納米以下的浸潤式光刻機，浸潤式光刻機可以發(fā)展到7納米工藝。

中國的芯片制造企業(yè)目前就以浸潤式光刻機研發(fā)接近7納米的工藝，某國產手機的5G芯片被認為就是以接近7納米的工藝生產，這是國產芯片的重大進步，意味著國產芯片在先進工藝方面取得了重大突破。

業(yè)界人士指出中國所需求的芯片，7納米以上工藝占七成到九成，中國如能實現(xiàn)7納米的大規(guī)模量產，那么國產芯片的自給率可以大幅提升，而這幾年中國芯片由于國產芯片替代，芯片進口大幅減少，2023年的芯片進口金額較2021年減少了近千億美元。

俄羅斯如今也開始自研光刻機，在于眾所周知的影響，導致俄羅斯無法進口光刻機，而推進自研光刻機，如今它實現(xiàn)自研光刻機的重大突破，代表著它的光刻機產業(yè)開始起步。

對于光刻機這個行業(yè)來說，有了起步，后續(xù)可以逐步升級，光刻機本身就是一條很長的產業(yè)鏈，ASML的EUV光刻機就需要全球5000家企業(yè)協(xié)作生產，俄羅斯實現(xiàn)自研光刻機，意味著它已打造了一條完整的光刻機產業(yè)鏈。

不過從俄羅斯的光刻機產業(yè)發(fā)展也可以看出，它的進展過于緩慢了，預計到2026年才量產130納米光刻機，而2026年全球的先進工藝將發(fā)展到2納米，俄羅斯的光刻機發(fā)展無疑比全球落后太多。

全球的芯片產業(yè)鏈曾經強調自由貿易，但是卻由于種種原因被打斷，如今各國都開始發(fā)展自己的芯片產業(yè)鏈，對全球芯片產業(yè)將產生重要影響，這樣的結果顯然與自由貿易相違背，導致如此結果是某國造成的，它曾力推自由貿易，如今卻又強勢打斷，凸顯出它的強橫和任性。